美国3D打印机制造商波士顿微装配公司（BMF）的"多尺度投影微立体光刻系统"获得美国专利商标局授予的第12,420,486 B2号专利。该专利于2025年9月23日颁发，保护了一种支撑公司microArch D1025 3D打印机的双分辨率光学系统。这一技术突破能够在更大成型范围内实现快速、高精度的微尺度零件制造。

该专利光学系统在单一光路中整合了具有10微米和25微米两种不同成像倍率的多重投影镜头。这种配置使3D打印机能在制造过程中动态切换分辨率，同时优化细节精度与生产效率。通过融合两种成像尺度，该设计在保持复杂几何结构微米级精度的同时，显著提升了投影微立体光刻技术的效能。

"这项专利巩固了我们在超高精度增材制造领域的领先地位，"波士顿微装配公司CEO约翰·卡沃拉表示，"双分辨率架构实现了速度与精度的独特结合，让工程师能够单次成型同时具备精密特征与大型几何结构的微型零件。"

该系统自动为关键特征分配10微米曝光，为大面积区域分配25微米曝光，在保证尺寸精度的同时缩短打印时间。这种双镜头方案为精密结构与大规模生产需求提供了适配的工作流程。

专利发明人夏春光博士与徐嘉文博士隶属于BMF母公司——深圳摩方材料科技。兼任公司首席技术官的夏博士评价道："microArch D1025体现了我们突破微尺度制造极限的使命。这套双分辨率系统不仅是光学领域的重大突破，更是一个推动微制造设备升级的平台。"

投影微立体光刻技术通过数字光投影逐层固化光敏树脂，可实现最小数微米的特征尺寸。成立于2016年的波士顿微装配在波士顿、深圳、重庆和东京设有分支机构，其专有PµSL技术为医疗、电子、光子、微流控及科研领域制造高分辨率3D打印零件。该公司的系统被广泛应用于对精度与一致性要求严苛的实验室及生产环境。

2024年推出的microArch D1025是首款采用双分辨率理念的商业3D打印机。医疗、电子及科研领域的制造商已采用该系统，用于需要精密特征与大型支撑结构相结合的应用场景。其自适应双镜头机制在单一制造过程中实现了效率与精度的统一。

获得美国专利后，BMF计划将双分辨率设计扩展至未来产品线，进一步巩固其在精密增材制造领域的地位。

专利活动折射3D打印创新趋势

3D打印领域的专利通过赋予发明人专有权来保护创新成果并激励投资。在分享技术知识促进创新的同时，专利还帮助企业规避侵权风险并保持竞争优势。

今年7月初，位于水牛城的后处理系统制造商PostProcess Technologies获得其第50项美国专利。该公司的专利涵盖硬件、化学剂与软件，致力于为各种3D打印技术提供树脂清洗、支撑去除与表面处理的自动化解决方案。自2014年成立以来，PostProcess已交付800余套系统，其DEMI与BASE产品线助力生产环境实现后处理流程标准化并减少人工操作。

另一起专利动态中，总部位于纽约的IBM获得关于3D打印建筑虚拟现实设计方法的第12,340,150 B2号美国专利。该专利于2021年6月提交，2022年12月公布，描述了一种可在施工前模拟噪音、气流、照明与温度等环境因素的仿真引擎。建筑师可在VR环境中调整布局与材料，并将最终设计导出至建筑级3D打印机。共同发明人苏巴·基兰·帕特纳库尼与萨巴吉特·K·拉克希特开发的这一系统，旨在提升3D打印建筑的精度与功能性。