加州大学圣巴巴拉分校（UCSB）获得美国国家科学基金会（NSF）115万美元拨款，用于购置一套基于双光子光刻技术的3D快速纳米打印系统。该设备将扩展该校纳米加工实验室的能力。UCSB电气与计算机工程教授Galan Moody作为项目负责人主导了此项申请，四位联合负责人分别为生物工程系的Marley Dewey、物理系的Andrew Jayich、机械工程系的Sumita Pennathur及物理系的Andrea Young。这笔拨款使UCSB在这一在美国学术界仍属稀缺的工具类别中占据领先地位。Moody表示：“美国仅有少数几所大学拥有具备这些能力的工具。”

研究团队在申请中论证，该设备填补了现有方法留下的空白。申请书写道，之所以需要这些工具，“是因为我们已触及现有纳米加工工具的能力极限，这些工具虽然能够在二维平面上制造分辨率低至约10纳米的半导体、介质和金属结构，但仅限于平面几何构型。要制造日益重要的三维微结构，还需要额外的复杂且耗时的步骤。”Moody解释说，传统光刻技术只能将图案转移到厚度仅数百纳米的薄膜上，几乎没有在垂直维度上进行构建的空间。

早期的增材制造系统仅通过堆叠极薄的层片来制造三维物体——这些层片虽有长宽却缺乏实际纵深。新系统则能够直接在芯片上打印出真正的三维微结构。作者写道：“该系统独有的能力为复杂结构和器件的纳米及微米级制造开辟了新途径，使其不再受限于几何形状或被局限在二维平面内。”一个应用方向在于量子光子学领域，光从芯片传输到光纤时的损耗始终是一个棘手问题。该系统可在芯片边缘或光纤上打印一个宽度小于50微米的聚合物透镜，通过调控光学模式使光以最小损耗在两者之间耦合传输。