微纳3D打印领域领先企业Nanoscribe近日在上海正式启用Quantum X系列示范实验室，将新一代三维微纳加工技术引入中国市场，以应对全球日益增长的工业需求。

这一战略举措体现了对中国市场光子学、光学及先进制造生态发展的重视。该实验室将以Nanoscribe的Quantum X align系统为核心，让本土工业客户有机会近距离体验新一代"对准式双光子光刻"技术。

Quantum X align系统是一款专为高分辨率三维激光光刻设计的高性能双光子光刻设备，具备在光纤、芯片和晶圆上的自动对准功能，旨在攻克高精度微纳制造的关键技术瓶颈。

Nanoscribe首席执行官兼联合创始人马丁·赫尔马茨维勒表示："上海Quantum X示范实验室不仅是一个本地设施，更标志着我们对中国市场长期承诺的重要里程碑。通过提供高通量双光子光刻设备，我们帮助客户加速研发周期，跨越从学术概念验证到工业规模生产的鸿沟，这正是我们积极推动'从实验室到工厂'转化的实践。"

突破性技术平台
该系统采用Nanoscribe独家研发的光刻技术：双光子灰度光刻与对准式双光子光刻。双光子灰度光刻可在单次扫描过程中实现连续体素调制，据称打印速度较传统方法提升10至60倍。对准式双光子光刻则能直接在现有元件和预图案化基底（如光纤、光子芯片和晶圆）上进行精密3D打印，其横向对准精度可达100纳米，支持可扩展的光子封装流程。

实验室启用仪式现场进行了Quantum X align系统的实机演示。该设施现已全面投入运营，为Nanoscribe在亚太地区构建了集客户技术实操评估、合作研发、学术研究、技术培训与应用开发支持于一体的专属平台。