苏黎世SwissLitho公司与澳大利亚的EV Group公司共同开发出一种能够制造纳米级光学组件的新型纳米压印光刻（NIL）技术。

此次合作建立在先前由IBM Research研发并获得欧盟1760万欧元资助的项目的基础之上，将EV Group的“Hercules”系统与SwissLitho公司的“NanoFrazor”热扫描探针进行整合。

该种方法能够大量复制高精度的三维结构，公司的最初研究方向为应用于数据通信、增强现实（AR）、虚拟现实（VR）等应用中的衍射光学元件（DOF）以及其他光学组件。

“印章”全息图

试验生产线

EV Group在奥地利建立了“纳米压印光刻技术中心”，并邀请了光子学领域的专家们对可行性研究以及小规模生产进行了技术评估。

EV Group公司的技术总监Thomas Glinsner表示：“如今，我们已合作研究出纳米光刻技术完整的解决方案，该方法可用于三维结构制造以及其他光子学应用，并为双方公司扩大了客户群以及市场覆盖面。”

该技术最初由著名的苏黎世IBM Research实验室研究，SwissLitho公司的“NanoFrazor”热扫描探针也在此研发。无掩膜式直写光刻技术需要在图案形成之前将热敏抗蚀剂旋转涂抹至样品表面，后使用极其尖锐的加热尖端进行局部分解以及抗蚀剂蒸发，同时检查已写入的纳米结构。

SwissLitho解释称：“由此产生的任意光致抗蚀图可以通过剥离、蚀刻、电镀、成型或其他方法转移到任何其他材料上，最终形成纳米压印的‘主印章’。”

EV Group的“Hercules”紫外纳米压印光刻系统能够大量复制纳米压印图案的三维结构，为直径为200mm的晶片提供高达40wph的产能。

单纳米精度

SwissLitho的首席执行官Felix Holzner表示：“NanoFrazor为昂贵的电子束光刻系统提供高性能且经济实惠的替代方案和扩展方法。”

“该技术允许在单步执行中制造具有多种‘级别’的主图案。特别是对于单纳米精度的三维结构而言，其生产方法比起传统电子束光刻或灰度光刻方法更为简单并具有更高的保真度。”

SwissLitho、IBM Research以及EV Group共同参加了由欧盟第七框架协议（FP7）支持的“超越CMOS的单纳米制造”（SNM）项目。

该项目持续时间为2013年1月至2017年3月，由德国伊尔梅瑙工业大学的首席研究员Ivo Rangelow领导。其他合作伙伴包括英国牛津仪器公司、比利时半导体开发中心以及伦敦帝国理工学院等。

项目主要目标是将最先进的光刻技术推向单一纳米尺度，以产生超低功耗电子、量子器件以及控制单个电子的能力。

SwissLitho公司由联合创始人Holzner与公司首席技术官Philip Paul于2012年共同创立，他们曾经于IBM Research共同领导了NanoFrazor技术的研究。此后，SwissLitho建立了全球销售网络，曾向美国空军研究实验室、澳大利亚墨尔本纳米制造中心以及荷兰应用科学研究组织（TNO Delft）销售产品。